发明名称 用于基板处理的排气装置
摘要 本发明提供一种在可靠地收集排气流体中的异物的同时能够增大收集量且实现装置的小型化的排气装置。排出被供给至收容作为被处理基板的半导体晶片W的密闭容器(54)内的供处理用流体的排气装置,在经由排气管(68)连接到所述密闭容器且上下端闭塞的外部排气筒(71)内,具有:向下方引导流过该外部排气筒内的排气流体的下游导向通路(201)、在向上方引导在该下游导向通路中流动的排气流体的同时使排气流体中的异物等发生重力沉降的上游导向通路(202)和将该上游导向通路中的流动的排气流体向下方外部引导的排出通路(203),在排出通路中设置有作为排气单元的喷射器(100)。
申请公布号 CN100511586C 申请公布日期 2009.07.08
申请号 CN200610159968.4 申请日期 2006.09.28
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 木村义雄;金川耕三
分类号 H01L21/027(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1. 一种用于基板处理的排气装置,其排出供向收容被处理基板的处理室内的供处理用的流体,其特征在于:所述排气装置在经由排气管与所述处理室连接且上下端闭塞的外部排气筒内,具有:将在该外部排气筒内流动的排气流体向下方引导的下游导向通路;将在该下游导向通路中流动的排气流体向上方引导的同时,使排气流体中的异物发生重力沉降的上游导向通路;和将在该上游导向通路中流动的排气流体向下方外部引导的排出通路,并在所述排出通路中介入设置有排气单元而构成,所述下游导向通路由所述外部排气筒和一端与该外部排气筒的顶部连接且下端开放的中间排气筒形成;所述上游导向通路由所述中间排气筒和在所述中间排气筒设有间隙、并在上端开放的状态下插入的同时,贯通所述外部排气筒底部的内部排气筒形成;并且在所述内部排气筒形成排出通路,所述中间排气筒形成的上游导向通路的外周内壁形成为向下扩大的锥体状,在所述外部排气筒的内壁面、所述中间排气筒的内外壁面和所述内部排气筒的外壁面中至少在中间排气筒的内壁面和内部排气筒的外壁面,形成有促进排气流体中的异物的附着的粗面部,所述外部排气筒能够分割形成为连接中间排气筒的上半体和嵌插有内部排气筒的下半体。
地址 日本东京
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