具有改进的密度和阶梯覆盖率的无定形碳膜的沉积方法

摘要

一种在基板上沉积无定形碳层的方法包括下列步骤：将基板放置在处理室中；将烃源导入处理室；将重稀有气体导入处理室；以及在处理室中产生等离子体。重稀有气体选自由氩、氪、氙、及其混合物所组成的群组，并且稀有气体的摩尔流速大于烃源的摩尔流速。该方法可包括后沉积终止步骤，其中烃源及稀有气体的流动并终止，并且将等离子体维持在处理室中一段时间以自处理室中移除粒子。

主权项

1. 一种在基板上形成无定形碳层的方法，包括：将基板放置在基板处理室中；将烃源导入该处理室；将稀有气体导入该处理室，而该稀有气体选自由氩气、氪气、氙气及其组合所组成的群组，其中该稀有气体的摩尔流速大于该烃源的摩尔流速；在该处理室中产生等离子体；以及在该基板上形成无定形碳层。