摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithografie, mit einer optisch genutzten Anordnung (83; 110), einer Stützstruktur (82; 103) und einer Federeinrichtung (1, 21, 41, 61). Dabei weist die Federeinrichtung (1, 21, 41, 61) wenigstens ein Federelement (4, 24, 44, 64) auf. In zumindest einem Betriebszustand der optischen Einrichtung ist die Federeinrichtung (1, 21, 41, 61) mit der Stützstruktur (82; 103) und der optisch genutzten Anordnung (83; 110) verbunden. In dem zumindest einen Betriebszustand übt die Ferdereinrichtung (1, 21, 41, 61) in einer Federrichtung eine Federkraft auf die optisch genutzte Anordnung (83; 110) aus. Um eine optische Einrichtung zur Verfügung zu stellen, bei der auf einfache Weise eine präzisere Einstellung der auf optisch genutzte Anordnungen wirkenden Rückstell- bzw. Haltekräfte ermöglicht bzw. ein Abbremsen beweglicher optisch genutzter Anordnungen auch bei kurzen maximalen Federwegen sichergestellt ist, ist das wenigstens eine Federelement (4, 24, 44, 64) nach Art einer Knickfeder ausgebildet und angeordnet.
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