| 发明名称 | 曝光装置以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。 | ||
| 申请公布号 | CN101470362A | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200910009745.3 | 申请日期 | 2004.07.07 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 木内彻;三宅寿弘 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B7/02(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 金春实 |
| 主权项 | 1. 一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并经由所述投影光学系统和所述液体将图形曝光在衬底上，该曝光装置的特征在于，具备：以包围构成所述投影光学系统的多个光学部件中与所述液体接触的光学部件的侧面或保持该光学部件的保持部件的侧面的方式设置，并且具有液体供给口和液体回收口中的至少某一方的环状部件；以及阻止液体浸入所述光学部件或所述保持部件的侧面和所述环状部件之间的第一密封部件。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||