发明名称 |
虚置图案的设置布局方法 |
摘要 |
一种虚置图案的设置方法,用来增加铝垫层的图案密度。此方法例如是提供一基底,于基底上形成一层铝垫材料层,然后图案化铝垫材料层,而形成铝垫层,铝垫层由多个铝垫与多个虚置图案所组成,这些虚置图案分布于铝垫之间的空旷处。另外,铝垫层中还可以设置有绕线,则虚置图案即分布于铝垫之间、铝垫与绕线之间,或是绕线之间的空旷处。 |
申请公布号 |
CN100508150C |
申请公布日期 |
2009.07.01 |
申请号 |
CN200610108420.7 |
申请日期 |
2006.08.02 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
侯信铭 |
分类号 |
H01L21/60(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/60(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1. 一种虚置图案的布局方法,适用于增加铝垫层的图案密度,该铝垫层设置于基底上,且预定设置有多个预定图案,使该铝垫层具有预定图案密度,该预定图案密度是该预定图案的面积与整个该铝垫层面积的比值,该布局方法包括:提供已知的明暗比值,该已知的明暗比值是依照元件的设计以及蚀刻的工艺空间而计算出来的比值;以及比较该预定图案密度与该已知的明暗比值的大小,其中,若该预定图案密度大于等于该已知的明暗比值,则无须设置该些虚置图案;若该预定图案密度小于该已知的明暗比值,则于该些预定图案之间的空旷处形成该些虚置图案。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |