经由ＡＬＤ或ＣＶＤ制备含金属膜的方法

摘要

本发明描述了通过化学蒸汽沉积或原子层沉积包含金属薄膜，例如金属矽酸盐或金属氧氮化矽薄膜的沉积方法。在一个具体实施方案中，含金属薄膜的沉积方法包括向反应室中引入吹扫气体之后引入金属醯胺前驱物，含矽前驱物和氧源的步骤。