| 发明名称 |
含金属基材的化学机械平坦化方法 |
| 摘要 |
本发明描述使用相关组成物将含金属基材(例如，铜基材)化学机械平坦化的方法。此方法提供该含金属基材的CMP处理期间该金属上的低碟化及局部侵蚀程度。 |
| 申请公布号 |
TW200927898 |
申请公布日期 |
2009.07.01 |
| 申请号 |
TW097133292 |
申请日期 |
2008.08.29 |
| 申请人 |
杜邦气体产品奈米材料有限公司 |
发明人 |
班特力 Ｊ 帕麦尔;安 马利 梅尔斯;苏瑞许 夏堤;张光颖;艾乔伊 露希 |
| 分类号 |
C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈展俊;林圣富 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
