发明名称 曝光装置及校正装置
摘要 一种曝光装置,建构成可藉使用来自一光源的光,将一原片的一图样曝光在一基底上。曝光装置具有一照明光学系统,建构成可使用来自该光源的片,利用偏振光来照射原片,及一校正单元,建构成可校正来自光源的光的光轴,及照明光学系统的光轴的失调准。校正单元具有第一透镜及一偏转构件,第一透镜可沿一与透镜的一光轴成垂直的方向移动,且由该偏转构件所偏转的光的一偏转方向系可变的。
申请公布号 TW200928606 申请公布日期 2009.07.01
申请号 TW097137928 申请日期 2008.10.02
申请人 佳能股份有限公司 发明人 须田广美
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/28(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本