| 发明名称 | 高透光导电膜系 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种高透光导电膜系，包括透明基层，在透明基层的一表面依次复合的由高折射率无机介质膜、低折射率无机介质膜依次交错排列形成的至少两层无机介质膜的无机介质膜层，复合于无机介质膜层最外层的透明导电膜层，透明导电膜层的厚度为满足方块电阻需要的厚度8～60nm，高透光导电膜系在380nm～780nm光波长范围内整体透过率达到85％以上。本实用新型具有高电阻稳定性和高透光性，适用于制造高透光导电材料，特别适用于耐温能力在200℃以下的基材制成的导电材料。 | ||
| 申请公布号 | CN201266244Y | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200820140579.1 | 申请日期 | 2008.10.07 |
| 申请人 | 甘国工 | 发明人 | 甘国工 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 成都立信专利事务所有限公司 | 代理人 | 江晓萍 |
| 主权项 | 1. 一种高透光导电膜系，其特征在于包括透明基层，在透明基层的一表面依次复合的由高折射率无机介质膜、低折射率无机介质膜依次交错排列形成的至少两层无机介质膜的无机介质膜层，复合于无机介质膜层最外层的透明导电膜层，透明导电膜层的厚度为满足方块电阻需要的厚度8～60nm，高透光导电膜系在380nm～780nm光波长范围内整体透过率达到85％以上。 | ||
| 地址 | 610100四川省成都市龙泉驿区经济技术开发区星光中路103号东泰(成都)工业有限公司 | ||