| 主权项 |
1.一种用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，包括：一可密闭腔体，用以供待处理物置放，且其上设有排气孔与进气孔，并设有一可改变其内部温度之加热器；一臭氧产生器，与该可密闭腔体之进气孔相连通，以对该可密闭腔体供给臭氧；以及一流体输送装置，用以填充化学反应物，并位于该可密闭腔体外，且具有伸入该可密闭腔体内之微量输送管；其中，该可密闭腔体内更设有一蒸发容器，所述流体输送装置之微量输送管系延伸至该蒸发容器之相对处，以将化学反应物注入该蒸发容器内。2.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中该可密闭腔体系增设有真空泵浦。3.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中该臭氧产生器系进一步设有一氧气阀，以提供氧气输入。4.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中该流体输送装置系为一注射器，而所述微量输送管即为该注射器之针头。5.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中该流体输送装置系为一可控制微量流体输送之泵浦。6.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中所述流体输送装置之数量系为复数者。7.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中所述流体输送装置系透过一微电脑控制器，提供所需注入的化学反应物之剂量。8.如申请专利范围第1项所述之用于生物晶片或医疗工具之乾式清洗及表面处理设备，其中所述流体输送装置之微量输送管延伸至该蒸发容器之相对处，系指该蒸发容器之上方。图式简单说明：第一图 系习知以化学蒸气反应处理物体的表面清洗装置之构造示意图。第二图 系本创作之构造示意图。 |
