发明名称 | 移载容器之遮蔽式入出气结构 | ||
摘要 | 本发明系一种移载容器之遮蔽式入出气结构,尤指一种可提升洁净度、且避免伤害光罩的移载容器之遮蔽式入出气结构,该移载容器包含有可相对盖合之一底座与一壳罩,且底座顶面设有一由两承托件与一抵持件所组成的”ㄇ”型支撑体,以支撑光置,而入出气结构系于底座上设有至少两个可选择性产生气密作用之入出气元件,该两入出气元件系设于中空之承件件范围内,使得移载容器置于对应装置时,可透过设于装置上之对应启闭元件选择性开启移载容器的两入出气元件,而对密合之移转容器内部注入乾净气体,并将移转容器内部之气体导出,使得气体可于该移转容器内部形成进、出之循环流动状态,能长时间维持移转容器内部环境的洁净度,同时由于入出气结构系设于承托件下方,可避免气流直接冲击光罩表面,不致发生伤害光罩表面的现象。 | ||
申请公布号 | TW200927593 | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
申请号 | TW096151244 | 申请日期 | 2007.12.31 |
申请人 | 亿尚精密工业股份有限公司 | 发明人 | 廖莉雯;陈俐殷;卢诗文;蔡铭贵 |
分类号 | B65B1/04(2006.01) | 主分类号 | B65B1/04(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 黄启修 | |
主权项 | |||
地址 | 高雄县凤山市镇北北巷20之13号 |