| 发明名称 | 涂敷显影装置、基板处理方法以及记录介质 | ||
| 摘要 | 提供一种将基板检查单元装入时占有面积小而可避免不利的布置的涂敷、显影装置。将包括多个处理单元以及搬送机构(A3)、(A4)的涂敷膜形成部(B3)、包括多个处理单元(31)以及搬送机构(A1)的显影处理部(B1)上下重叠地配置在处理模块(S2)中。在处理模块(S2)的载体模块(S1)侧设置作为在与各部的搬送机构之间进行基板(W)的交接的多个交接单元(TRS)的上下重叠地配置的多个交接单元(TRS)、和在与各交接单元之间交接基板的升降自如的交接单元用搬送机构(D1)。涂敷膜形成部以及显影处理部的至少某一方具有进行由该部的搬送机构搬送的基板的检查的基板检查单元(43)。 | ||
| 申请公布号 | CN100508115C | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200710096608.9 | 申请日期 | 2007.04.16 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 松冈伸明;林田安;林伸一 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G02F1/133(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1. 一种涂敷、显影装置，具有：处理模块，包括将涂敷膜形成在基板上的多个涂敷膜形成部、和对基板进行显影处理的显影处理部；载体模块，具有将应形成涂敷膜的基板交给上述处理模块、并且从上述处理模块接收进行了上述显影处理的基板的载体模块用搬送机构；接口模块，从上述处理模块接收形成有上述涂敷膜的基板并交给曝光装置、且从曝光装置接收曝光后的基板并交给上述处理模块，上述多个涂敷膜形成部以及上述显影处理部在上述处理模块内上下重叠地配置，各涂敷膜形成部，具有：处理单元，该处理单元包括将涂敷液涂敷在基板上的一个以上的液处理单元以及对涂敷有涂敷液的基板进行加热的加热单元；和在这些处理单元之间搬送基板的涂敷膜形成部用搬送机构，上述多个涂敷膜形成部中的至少一个具有将抗蚀剂液涂敷在基板上的液处理单元，上述显影处理部，具有：处理单元，该处理单元包括加热处理曝光后的基板的加热单元以及将显影液涂敷在基板上的液处理单元；和在这些处理单元之间搬送基板的显影处理部用搬送机构，上述处理模块，还包括：多个交接单元，配置在分别与上述多个涂敷膜形成部以及上述显影处理部对应的高度方向位置上，在与各交接单元所对应的各部之间经由该各部用的搬送机构而进行基板的交接；和在上述多个交接单元之间搬送基板的可升降的交接单元用搬送机构，上述多个涂敷膜形成部以及上述显影处理部中的至少一个还具有对由该部用的搬送机构搬送来的基板进行检查的基板检查单元. | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||