| 发明名称 | DDR 型沸石膜的制造方法、DDR 型沸石膜以及 DDR 型沸石膜复合物及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，膜的主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳(CO<sub>2</sub>)、氢(H<sub>2</sub>)、氧(O<sub>2</sub>)、氮(N<sub>2</sub>)、甲烷(CH<sub>4</sub>)、正丁烷(n-C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>)、异丁烷(i-C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>)、六氟化硫(SF<sub>6</sub>)、乙烷(C<sub>2</sub>H<sub>6</sub>)、乙烯(C<sub>2</sub>H<sub>4</sub>)、丙烷(C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>)、丙烯(C<sub>3</sub>H<sub>6</sub>)、一氧化碳(CO)以及一氧化氮(NO)的至少2种气体分别在室温和100℃的单一成分气体透过率在上述至少2种气体间彼此不同。 | ||
| 申请公布号 | CN100506362C | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN02822549.X | 申请日期 | 2002.09.17 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社 | 发明人 | 中山邦雄;铃木宪次;吉田学;谷岛健二;富田俊弘 |
| 分类号 | B01D71/02(2006.01)I;C01B37/02(2006.01)I | 主分类号 | B01D71/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 庞立志 |
| 主权项 | 1. 一种DDR型沸石膜的制造方法，其特征在于：使用1-金刚烷胺与二氧化硅的含有比例即1-金刚烷胺/SiO2为0.03-04摩尔比、水与二氧化硅的含有比例即水/SiO2为20-500摩尔比、且乙二胺与1-金刚烷胺的含有比例即乙二胺/1-金刚烷胺为5-32摩尔比的原料溶液和作为晶种的DDR型沸石粉末，通过水热合成形成DDR型沸石膜。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||