制造用于表壳的陶瓷元件的方法及通过该方法获得的元件

摘要

一种制造将被装配在表壳上的陶瓷元件的方法，所述陶瓷元件的可见表面具有构造特征，其中，可溶层(2)有选择地被沉积在所述可见表面上，所述可溶层的厚度至少等于所述构造特征的高度，通过物理汽相沉积(PVD)利用磁控管溅射在被有选择地涂敷的所述表面上真空沉积厚度至少为100nm的钛、钽、铬或钍型的第一粘结层(3)，随后，在与大气不相通的情况下，利用PVD沉积由金、铂、银、镍、钯、TiN、CrN、ZrN或其合金形成的第二层(4)，所述第二层的厚度至少为100nm，然后，所述可溶层(2)被溶解。

主权项

1. 一种制造将被装配在表壳上的陶瓷元件的方法，所述陶瓷元件的可见表面具有构造特征，其中，可溶层(2)有选择地被沉积在所述可见表面上，所述可溶层的厚度至少等于所述构造特征的高度，通过物理汽相沉积利用磁控管溅射在被有选择地涂敷的所述表面上真空沉积厚度至少为100nm的钛、钽、铬或钍型的第一粘结层(3)，随后，在不与大气相通的情况下，利用物理汽相沉积由金、铂、银、镍、钯、TiN、CrN、ZrN或其合金形成的第二层(4)，所述第二层的厚度至少为100nm，然后，所述可溶层(2)被溶解。