| 发明名称 | 沉积设备和沉积方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了沉积设备和沉积方法，所述沉积设备包括：用于放置处理对象的第一电极；用于和第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和用于冷却处理对象的冷却部件，其中，在所述处理对象和所述冷却部件之间，与处理对象的中心部分和冷却部件之间的热阻相比，中心部分周围的周围部分和冷却部件之间的热阻较小。 | ||
| 申请公布号 | CN101469417A | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200810188628.3 | 申请日期 | 2008.12.25 |
| 申请人 | 日本财团法人高知县产业振兴中心;卡西欧计算机株式会社 | 发明人 | 西村一仁;笹冈秀纪 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)N | 主分类号 | C23C16/513(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 苗 征;于 辉 |
| 主权项 | 1. 沉积设备，其包含：用于放置处理对象的第一电极；用于和所述第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和用于冷却处理对象的冷却部件，其中，在所述处理对象和所述冷却部件之间，与处理对象的中心部分和冷却部件之间的热阻相比，中心部分周围的周围部分和冷却部件之间的热阻较小。 | ||
| 地址 | 日本高知县 | ||