透明导电膜之形成方法

摘要

本发明之透明导电膜之形成方法，系于具备透明导电膜之形成材料之标靶施加溅射电压，且于上述标靶之表面产生水平磁场进行溅射，于基板上形成以ZnO为基本构成元素之透明导电膜，且，系于上述溅射电压为340 V以下进行上述溅射。