发明名称 光波干涉测量装置
摘要 本发明提供一种光波干涉测量装置,由透射/反射分离面(13a)分成两部分的来自光源(11)的光束,通过分别对应的球面基准透镜(15)、(25),以担持与被验非球面透镜(17)和参照非球面透镜(27)的表面形状对应的波阵面信息的状态再次被合波,被验非球面透镜(17)相对于参照非球面透镜(27)的波阵面误差成为干涉条纹信息而形成在干涉仪CCD摄像机(31)的摄像面上。球面基准透镜(15)、(25)具有互相相同的曲率的基准球面(15a)、(25a),基于来自各透镜(17)、(27)的反射光的波阵面信息是基于各透镜(17)、(27)的表面形状和基准球面(15a)、(25a)的表面形状之差的波阵面信息,因此,即使是非球面,也可以同时获得关于整个有效区域的干涉条纹信息。
申请公布号 CN101469976A 申请公布日期 2009.07.01
申请号 CN200810185513.9 申请日期 2008.12.12
申请人 富士能株式会社 发明人 葛宗涛
分类号 G01B11/24(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I 主分类号 G01B11/24(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1. 一种光波干涉测量装置,其特征在于,具备:光束分离合成机构,将来自光源的光束分为两部分,将一部分作为朝向被验体方向的第1光束,并且,将另一部分作为朝向参照体方向的第2光束,将上述第1光束的来自上述被验体的返回光和上述第2光束的来自上述参照体的返回光合成为干涉光,在被配置于规定位置的摄像体上形成基于上述被验体的表面形状信息的干涉条纹图像;第1球面基准透镜,配置在上述光束分离合成机构和上述被验体之间且将与上述被验体相对的面作为第1基准球面,以使来自上述光束分离合成机构的上述第1光束入射到上述被验体的表面,并且使从上述被验体的表面反射的上述第1光束返回上述光束分离合成机构;和第2球面基准透镜,配置在上述光束分离合成机构和上述参照体之间且具备与上述参照体相对的面是与上述第1基准球面相同的曲率的第2基准球面,以使来自上述光束分离合成机构的上述第2光束入射到上述参照体的表面,并且使从上述参照体的表面反射的上述第2光束返回上述光束分离合成机构;上述被验体是应测量表面形状的非球面光学元件,上述参照体呈应作为上述被验体的基准的形状的非球面光学元件。
地址 日本国埼玉县