发明名称 相位变化记忆体结构
摘要 本发明提供一种相位变化记忆单元,其具有一第一电极(1301)、复数个柱(301)及一第二电极。该复数个柱系被电力耦合于该第一电极。该等柱之每一者包含一相位变化材料部分(303)及一加热器材料部分(305)。该第二电极系被电力耦合至该等柱之每一者。在一些实例中,该等柱具有一小于20奈米之厚度。
申请公布号 TW200929632 申请公布日期 2009.07.01
申请号 TW097131951 申请日期 2008.08.21
申请人 飞思卡尔半导体公司 发明人 拉玛琴伦 慕瑞黎赫;图沙P 莫钱特;拉杰许A 罗
分类号 H01L45/00(2006.01);H01L27/24(2006.01) 主分类号 H01L45/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国