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发明名称
相位变化记忆体结构
摘要
本发明提供一种相位变化记忆单元,其具有一第一电极(1301)、复数个柱(301)及一第二电极。该复数个柱系被电力耦合于该第一电极。该等柱之每一者包含一相位变化材料部分(303)及一加热器材料部分(305)。该第二电极系被电力耦合至该等柱之每一者。在一些实例中,该等柱具有一小于20奈米之厚度。
申请公布号
TW200929632
申请公布日期
2009.07.01
申请号
TW097131951
申请日期
2008.08.21
申请人
飞思卡尔半导体公司
发明人
拉玛琴伦 慕瑞黎赫;图沙P 莫钱特;拉杰许A 罗
分类号
H01L45/00(2006.01);H01L27/24(2006.01)
主分类号
H01L45/00(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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