| 发明名称 | 光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光刻胶液清洗过滤器气泡的方法，每次提供3毫升的光刻胶液流经至少一过滤器，共进行150次，之后每次提供1.5毫升的光刻胶液流经过滤器，共进行200次，且过滤器都是采用每秒过滤0.85毫升光刻胶液。这种低量光刻胶液、低量过滤速度能够降低光刻胶液在过滤器内所产生的气泡数目，并且用较知更为少量的光刻胶液即可轻易清除过滤器内的气泡。 | ||
| 申请公布号 | CN100507725C | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200710041905.3 | 申请日期 | 2007.06.12 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 程蒙 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 | 代理人 | 余明伟 |
| 主权项 | 1. 一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于包括下列步骤：(a)提供3毫升光刻胶液流经一过滤器；(b)重复步骤(a)，共进行150次；(c)提供1. 5毫升光刻胶液流经该过滤器；及(d)重复步骤(c)，共进行200次。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 | ||