选择性成膜中反应性物种的分离注入

摘要

一种用于选择性磊晶膜形成之方法及装置将反应性物种（10、20）分离地注入化学气相沈积腔室（300）。所述方法尤其可用于使用前躯体（10）与蚀刻剂（20）之挥发性组合进行选择性沈积。形成制程包含同时供应前躯体（10）及蚀刻剂（20）用于选择性沈积，或依序供应以用于循环毯覆沈积及选择性蚀刻。在任一情况下，沿在相对开放之反应空间（340）中而非较受限制之上游位置中相交的分离流动路径提供前躯体（10）及蚀刻剂（20）。