激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法和显示器制造方法

摘要

激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法。提供了一种通过使用用于选择性地使有源区域结晶而无激光照射标记的激光掩模来进行结晶的方法，包括：提供阵列基板，在该阵列基板中限定有N×M个有源区域；在所述基板上方布置具有第一块和第二块的激光掩模，其中所述第一块和第二块分别具有第一和第二掩模图案，并且所述第二掩模图案是所述第一掩模图案的相反图案；通过所述第一块在所述有源区域上照射第一激光束；并且通过所述第二块在所述有源区域上照射第二激光束。

主权项

1. 一种用于使硅薄膜的预定区域结晶的激光掩模，包括：第一块中的第一掩模图案；以及第二块中的第二掩模图案，其中，所述第一掩模图案包括：多个第一透光区域，和除所述第一透光区域以外的多个第一阻光区域；而所述第二掩模图案包括：与所述第一透光区域相对应的多个第二阻光区域，和与所述第一阻光区域相对应的多个第二透光区域，其中，所述预定区域是其中形成有有源图案的单位像素的有源区域，并且其中，在所述激光掩模的所述第一块和所述第二块之间的界面位于所述有源区域的外部，以消除照射标记。