摘要 |
L'invention concerne une base de production de vapeur (1) pour cuiseur vapeur, comportant un élément de base inférieur (10) formant un réservoir d'eau (11) et un élément de base supérieur (30) disposé au dessus de l'élément de base inférieur (10), l'élément de base supérieur (30) présentant au moins un passage de vapeur (31) entouré par une paroi latérale périphérique (32).Conformément à l'invention, l'élément de base inférieur (10) présente un bord supérieur périphérique (20) ménageant avec l'élément de base supérieur (30) une ouverture annulaire de remplissage (21) communiquant avec le réservoir d'eau (11) par au moins un passage d'écoulement (39) et l'élément de base supérieur (30) repose dans l'élément de base inférieur (10) à l'intérieur du bord supérieur périphérique (20).L'invention concerne également un cuiseur vapeur à éléments superposés, comportant un élément de cuisson (2) disposé sur une base de production de vapeur (1) selon les caractéristiques précitées.
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