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发明名称 Verfahren und System zur Kontaminationsmessung bei einem lithografischen Element
摘要
申请公布号 DE602007001110(D1) 申请公布日期 2009.06.25
申请号 DE200760001110T 申请日期 2007.01.05
申请人 INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM (IMEC) 发明人 LORUSSO, GIAN FRANCESCO;JONCKHEERE, RIK;GOETHALS, ANNE-MARIE;HERMANS, JAN
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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