发明名称 Oberflächenemittierender Halbleiterlaser und Verfahren zu dessen Herstellung
摘要 Es wird ein oberflächenemittierender Halbleiterlaser angegeben, der eine erste Halbleiterschichtenfolge (20) aufweist, die einen Pumplaser (7) umfasst, und der eine auf der ersten Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnete zweite Halbleiterschichtenfolge (3) aufweist, die einen Vertikalemitter (1) umfassst. Der Vertikalemitter (1) weist eine strahlungsemittierende aktive Schicht (4), eine Strahlungsaustrittsseite (5) und eine der Strahlungsaustrittsseite (5) gegenüberliegende Befestigungsseite (6) auf, wobei der Pumplaser (7) an der Strahlungsaustrittsseite (5) des Vertikalemitters (1) angeordnet ist und an der Befestigungsseite (6) des Vertikalemitters (1) ein Trägerkörper (2) angeordnet ist. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines oberflächenemittierenden Halbleiterlasers angegeben.
申请公布号 DE102008008595(A1) 申请公布日期 2009.06.25
申请号 DE200810008595 申请日期 2008.02.12
申请人 OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH 发明人 ILLEK, STEFAN
分类号 H01S5/04;H01S5/022;H01S5/18 主分类号 H01S5/04
代理机构 代理人
主权项
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