倾斜式生长形貌可控的纳米发光柱状薄膜的方法及装置

摘要

倾斜式生长形貌可控的纳米发光柱状薄膜的方法及装置，该装置包括：蒸发源(6)、衬底支架(2)、红外灯(9)及真空腔(7)；衬底支架(2)垂直于电机轴固定于电机轴端上；真空电机支架(3)固定于真空腔(7)的顶上，真空电机(1)与真空电机支架(3)连接，按蒸发粒子流(5)与衬底(4)法线夹角0～90度，通过锁栓(8)固定真空电机支架(3)上。纳米发光柱状薄膜的方法，启动真空电机(1)，使衬底支架旋转速度每分钟1～3转；给红外灯通电，给衬底加热到100～200度；发光材料的蒸发速率在0.1～0.2nm/s，制备的纳米发光柱状薄膜的厚度为100～300nm。用于光电子器件中作为功能层。

主权项

1. 倾斜式生长形貌可控的纳米发光柱状薄膜的装置，该装置包括：蒸发源(6)、衬底支架(2)、红外灯(9)及真空腔(7)；其特征是，衬底支架(2)垂直于真空电机轴固定于真空电机轴端上；真空电机支架(3)固定于真空腔(7)的顶上，真空电机(1)与真空电机支架(3)连接，按蒸发粒子流(5)与衬底(4)法线夹角在0～90度的范围，通过锁栓(8)固定真空电机支架(3)上。