发明名称 真空蒸汽沉积设备
摘要 一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地,一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外,该坩锅分成多个区域,在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器,从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。
申请公布号 CN100503881C 申请公布日期 2009.06.24
申请号 CN200610006228.7 申请日期 2006.01.23
申请人 三菱重工业株式会社 发明人 佐藤惠一;小林敏郎;加藤光雄;神川进;和田宏三
分类号 C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 车 文;樊卫民
主权项 1. 一种真空蒸汽沉积设备,其中蒸发材料容纳在设置于汽化室内的坩锅内,而且作为该汽化室的侧壁的热壁通过来自这些热壁的辐射热对蒸发材料进行加热以使蒸发材料汽化,从而蒸发材料沉积在工件表面上以形成薄膜,其中,该坩锅由在汽化室的整个区域上延伸的整体结构构成,并在坩锅上表面内具有多个凹槽,而且这些凹槽具有从坩锅上表面的一端到其另一端的长度,并起到用于容纳蒸发材料的部分的作用,其中坩锅分成多个区域,在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的加热装置,从而能通过这些加热装置为相应区域单独控制温度。
地址 日本东京都