发明名称 一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法
摘要 本发明涉及一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法,通过一专用测量系统,测量专用掩模上专用标记的位置,并计算出两激光干涉仪激光束相交角度的非正交值;该专用测量系统包括:照明系统、放置所述专用掩模的掩模台、用于所述掩模成像的光学系统、工件台、安置在工件台上的像传感器、X、Y向两激光干涉仪。将专用掩模上的掩模标记同工件台上的像传感器上的对应标记对准后,激光干涉仪记录当前工件台的位置;反复这一过程,直至所有标记对准完毕;利用两激光干涉仪测得的数据建模,获得两个激光干涉仪的非正交角度值。以减少测量时间,简化测量过程,实现系统周期性的自动测量校准,从而提高芯片生产的产量和精度。
申请公布号 CN100504615C 申请公布日期 2009.06.24
申请号 CN200610029297.X 申请日期 2006.07.21
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 庄燕子;王帆
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王 洁
主权项 1、一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法,其特征在于,通过一专用测量系统,测量专用掩模上专用标记的位置,并计算出两激光干涉仪激光束相交角度的非正交值;所述的专用测量系统包括:照明系统、放置所述专用掩模的掩模台、用于所述掩模成像的光学系统、工件台、安置在所述工件台上的像传感器、X、Y向两激光干涉仪;所述的测量方法是:制作一块专用掩模,并在该专用掩模上至少设置一行一列两组专用标记;行与列之间相互垂直排列成十字形;行与列的标记相同,且与工件台上的像传感器上的标记相匹配;透过专用掩模台与工件台中间相隔的透镜,将专用掩模上的专用标记与工件台上的像传感器对准;在这个过程中,专用掩模相对透镜不动,而工件台在电机的驱动下行进;由激光干涉仪测出工件台的不同位置信息;全部专用标记对准完成后,利用线性直线方程,通过曲线拟合的方式,将激光干涉仪测得的所有对准点拟合成两条直线;这两条直线间的夹角与90度角的偏差即为非正交角度值。
地址 201203上海市张江高科技园区张东路1525号