| 发明名称 | 在敏感药物化合物的存在下通过辐射制备聚合基质的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于制备药物加载基质的方法，所述基质具有药物化合物，所述方法包括，将聚合混合物在至少一种敏感药物化合物的存在下通过辐射进行聚合，其中，所述聚合混合物包括：a)至少一种可聚合化合物；b)可选的至少一种光引发剂；c)可选的至少一种添加剂，其中，对上述组分进行选择，从而使得所述敏感药物化合物的降解小于2％；或者对上述组分进行选择，从而保护所述敏感药物化合物抵抗降解，结果与采用会产生自由基的组分进行的辐射相比，所述降解为约50％或更低。 | ||
| 申请公布号 | CN101466358A | 申请公布日期 | 2009.06.24 |
| 申请号 | CN200780021966.1 | 申请日期 | 2007.06.12 |
| 申请人 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 发明人 | 埃尔文·乔治·安吉洛·安萨斯尔斯·戴耶斯;彼得·波如恩;奥德丽·佩蒂特 |
| 分类号 | A61K9/16(2006.01)I;A61K9/51(2006.01)I;A61K31/164(2006.01)I;A61K31/343(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I | 主分类号 | A61K9/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 肖善强;南 霆 |
| 主权项 | 1. 一种用于制备药物加载基质的方法，所述基质包含药物化合物，所述方法包括，将聚合混合物在至少一种敏感药物化合物的存在下通过辐射进行聚合，其中，所述聚合混合物包括：a)至少一种可聚合化合物b)可选的至少一种光引发剂c)可选的至少一种添加剂，其中，对上述组分进行选择，从而使得所述敏感药物化合物的降解小于2％。 | ||
| 地址 | 荷兰海尔伦 | ||