发明名称 |
微平版印刷投影曝光装置的投影物镜 |
摘要 |
本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜,其具有一折射率大于1.6的高折射率折射光学元件(L3)。该光学元件(L3)有一体积和一在该体积上变化的与材料有关的光学特性。该光学特性的变化造成物镜的像差。在一个实施例中,提供布置在与该折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积(L3’)中的至少4个光学表面。每一光学表面包括至少一个校正装置、例如表面变形或特性局部变化的双折射层,该校正装置至少部分地校正由光学特性变化造成的像差。 |
申请公布号 |
CN101467090A |
申请公布日期 |
2009.06.24 |
申请号 |
CN200780022275.3 |
申请日期 |
2007.06.15 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT股份公司 |
发明人 |
K-H·舒斯特;H·费尔德曼;T·格鲁纳;M·托采克;W·克劳斯;S·贝德;D·克雷默;O·迪特曼 |
分类号 |
G02B27/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
邱 军 |
主权项 |
1. 一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜,包括:a)高折射率折射光学元件,该折射光学元件具有一在193nm波长下大于1.6的折射率、一体积和一在该体积上变化的与材料有关的光学特性,其中,该光学特性的变化造成像差,b)布置在与该折射光学元件的该体积光学共轭的至少一个体积中的至少4个光学表面,其中,每一光学表面包括至少一个至少部分校正由光学特性变化造成的像差的校正装置。 |
地址 |
德国上科亨 |