| 发明名称 |
Method of manufacturing semiconductor integrated circuit device including nonvolatile semiconductor memory devices |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1227518(B1) |
申请公布日期 |
2009.06.24 |
| 申请号 |
EP20020002105 |
申请日期 |
2002.01.28 |
| 申请人 |
SEIKO EPSON CORPORATION |
发明人 |
EBINA, AKIHIKO;MARUO, YUTAKA |
| 分类号 |
H01L21/8247;H01L27/115;H01L21/28;H01L21/8246;H01L29/788;H01L29/792 |
主分类号 |
H01L21/8247 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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