| 发明名称 | 有源矩阵电子阵列装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种有源矩阵装置，其具有装置元件的一阵列(54)，每一装置元件包含至少一个薄膜晶体管(34)。一薄膜导电加热器元件配置(10)提供于该装置的一基板上，且所述薄膜晶体管的半导体岛提供于该加热器元件配置(10)上。该加热配置可保持在该装置中的适当位置处，藉此避免对处理过程中移除该加热器元件配置之层的需要。 | ||
| 申请公布号 | CN100505274C | 申请公布日期 | 2009.06.24 |
| 申请号 | CN200580020224.8 | 申请日期 | 2005.06.08 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·W·葛林 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;王忠忠 |
| 主权项 | 1. 一种有源矩阵电子阵列装置，其包含装置元件的一阵列(54)，每一装置元件包含至少一个薄膜晶体管(34)，其中该装置包含：一基板(12)；一提供于该基板上的薄膜导电加热器元件配置(10)；一提供于该加热器元件配置(10)上的电性绝缘层(16)；及限定所述薄膜晶体管并提供于该电性绝缘层(16)上的复数个薄膜层，所述薄膜层包含一半导体层(18)，且其中限定所述薄膜晶体管的该半导体层(18)的至少部分被提供于该加热器元件配置(10)上。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||