晶片清洗设备及其方法

摘要

本发明是有关一种晶片清洗设备及其方法。该清洗设备包括：槽体、基台、至少一第一侧壁、上盖及排气装置。基台位于槽体之中；第一侧壁设于槽体中，并围绕基台；上盖设于槽体中，并位于基台上，可操作用以在基台和第一侧壁间区隔出第一空间；排气装置联通位于基台和第一侧壁间第一空间。该清洗晶片方法包括：将放有晶片的基台置于密闭容器中，密闭容器位于反应槽中；藉第一喷嘴将第一化学品喷洒在基材表面；及藉由第二喷嘴将第二化学品喷洒在基材表面，以避免在第一、第二喷嘴中形成由第一、第二化学品因化学反应所生成的产物。本发明在清洗槽与清洗台间设有密闭空间，可防止晶片清洗工艺中液态硫酸铵残留结晶，而造成晶片上集成电路短路或产生开口，非常适于实用。

主权项

1、一种晶片清洗设备，其特征在于其包括：一槽体；一基台，位于该槽体之中；至少一第一侧壁，设置于该槽体之中，并围绕该基台；一上盖，设置于该槽体之中，并位于该基台之上，可操作用以在该基台和该第一侧壁之间，区隔出一第一空间；以及一排气装置，联通位于该基台和该第一侧壁之间的该第一空间。