发明名称 具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统
摘要 一种辐射系统,在收集器例如法线入射收集器和(等离子)光源之间设置有箔俘获,使得来自光源的辐射两次通过箔俘获。一次在照射到收集器之前,第二次在被收集器反射之后。这个结构在过去认为是不可能的。因为箔俘获包括与来自光源的辐射和被收集器反射的辐射平行的薄片,辐射不被箔俘获遮挡。这样,应用等离子产生的光源的法线入射收集器能够防止不受到来自EUV源的碎片。
申请公布号 CN100504605C 申请公布日期 2009.06.24
申请号 CN200410055044.0 申请日期 2004.06.25
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 L·P·巴克;V·Y·巴尼内;R·库尔特;F·J·P·舒尔曼斯;Y·V·西德尔尼科夫
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王波波
主权项 1. 一种用于提供辐射投射光束的辐射系统(20),包括:-辐射源(32);-收集器(22),用于收集来自所述辐射源(32)的辐射;设置所述收集器(22),以便来自所述辐射源(32)的所述辐射的入射基本上垂直于所述收集器(22)的表面,所述收集器(22)具有定义了具有第一焦点(28)和第二焦点(30)的假想椭圆体的弯曲内表面,所述辐射源(32)处于所述第一焦点中;-污染挡板(24),用于俘获来自所述辐射源(32)的污染粒子,所述污染挡板(24)设置在所述辐射源(32)和所述收集器(22)之间,以使来自所述辐射源(32)的辐射(34)通过,设置所述收集器(22),以致由所述收集器反射的辐射(36)将通过所述污染挡板(24),且其中所述污染挡板包括多个薄片(44;51),其设置在与所述反射的辐射(36)的传播方向平行的各个平面上,其特征在于,所述污染挡板(24)包括用于支撑所述薄片的外部环,所述外部环具有最小直径,以致所述外部环处于由所述收集器(22)的圆周和所述第二焦点(30)形成的第一圆锥之外,以便不阻碍到达所述收集器和所述第二焦点(30)或来自所述收集器和所述第二焦点(30)的任何辐射,其中所述污染挡板包括用于支撑所述薄片的内部环,所述内部环成形为第二圆锥的切片,所述第二圆锥的顶点大约在所述辐射源(32)的位置处。
地址 荷兰维尔德霍芬