发明名称 |
介质处理装置和使用该介质处理装置的介质签发装置 |
摘要 |
一种介质处理装置,其使用了一种小型的并且带有共用元件的环形传送机构。在该环形传送机构中使用有一圆环和多个带传送机构。通过使用该传送机构来回传送介质,并使用一个单独的记录元件进行记录处理。同时,该环形传送机构被模块化地构造,并且达到了将该装置所需的传送与一输送机构模块相结合。 |
申请公布号 |
CN100504928C |
申请公布日期 |
2009.06.24 |
申请号 |
CN200410087943.9 |
申请日期 |
2004.10.27 |
申请人 |
富士通株式会社;富士通先端科技株式会社 |
发明人 |
北川岳志;桧山千里;后藤野果;江添江 |
分类号 |
G07B3/02(2006.01)I;G07B5/00(2006.01)I |
主分类号 |
G07B3/02(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郑特强;经志强 |
主权项 |
1. 一种介质处理装置,用于来回传送介质,并在该介质上进行记录处理,包括:一不具有旋转支点的圆环;多个设置于该圆环圆周上的带传送机构;以及一设置于该圆环圆周上的记录元件,其中所述多个带传送机构支撑该圆环,并且驱动该圆环旋转,以使该介质通过被夹在所述带传送机构与该圆环之间而被来回传送。 |
地址 |
日本神奈川县 |