发明名称 Particle beam application device, beam emitting device and method for guiding a particle beam
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Partikelstrahlapplikationsvorrichtung, mit der ein in die Partikelstrahlapplikationsvorrichtung eintretender Partikelstrahl auf ein Zielvolumen zur Bestrahlung des Zielvolumens richtbar ist, umfassend eine in einem Strahlengang des Partikelstrahls anordenbare Strahlformungsvorrichtung zur Formung eines Querschnittsprofils des Partikelstrahls, wobei die Strahlformungsvorrichtung derart ausgebildet ist, dass der Partikelstrahl nach der Formung ein linienförmiges Querschnittsprofil aufweist, und eine Steuervorrichtung zum Ändern der Relativposition des Partikelstrahls und des Zielvolumen während eines Bestrahlungsvorgangs, wobei die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass durch das Ändern der Relativposition der Partikelstrahl mit dem linienförmigen Querschnittsprofil über das zu bestrahlende Zielvolumen scanbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Bestrahlungsvorrichtung mit einer derartigen Partikelstrahlapplikationsvorrichtung. Bei dem Verfahren zur Führung eines Partikelstrahls wird ein linienförmiges Querschnittsprofil eines Partikelstrahls geformt und anschließend ein Verlauf des Partikelstrahls variabel in eine zur Strahlverlaufsrichtung senkrechten Richtung geändert. </p>
申请公布号 EP2016979(A3) 申请公布日期 2009.06.24
申请号 EP20080104473 申请日期 2008.06.19
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 HANSMANN, THOMAS;RIETZEL, EIKE
分类号 A61N5/10 主分类号 A61N5/10
代理机构 代理人
主权项
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