发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法,在通过处理液处理基板后,通过溶剂蒸气干燥基板,所述装置包括:处理槽,其用于储存处理液;保持部,其在处理槽内保持基板;腔室,其包围所述处理槽的周围;溶剂蒸气供给部,其用于向所述腔室内供给溶剂蒸气;排气部,其经由一端一侧连接于所述腔室内的排气管,从所述腔室内排出气体;排液管,其一端一侧连接在所述腔室内,将处理液从所述腔室内排出;气液分离部,其与所述排气管的另一端一侧连接,取入由所述排气装置排出的气体,并且与所述排液管的另一端一侧连接,取入经由所述排液管排出的处理液,而且将气体和液体分离;混合部,其设置在所述排气管上,向由所述排气装置排出的气体内混合纯水。
申请公布号 CN101465281A 申请公布日期 2009.06.24
申请号 CN200810178088.0 申请日期 2008.12.19
申请人 大日本网屏制造株式会社 发明人 相原友明
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 马少东;徐 恕
主权项 1. 一种基板处理装置,在通过处理液处理基板之后,通过溶剂蒸气干燥基板,其中,所述装置包括:处理槽,其用于储存处理液;保持装置,其在所述处理槽内保持基板;腔室,其包围所述处理槽的周围;溶剂蒸气供给装置,其用于向所述腔室内供给溶剂蒸气;排气装置,其经由一端一侧连接于所述腔室内的排气管,从所述腔室内排出气体;排液管,其一端一侧连接于所述腔室内,将处理液从所述腔室内排出;气液分离装置,其与所述排气管的另一端一侧连接,取入由所述排气装置排出的气体,并且该气液分离装置与所述排液管的另一端一侧连接,取入经由所述排液管排出的处理液,而且将气体和液体分离;混合装置,其设置在所述排气管上,向由所述排气装置排出的气体内混合纯水。
地址 日本京都府京都市
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