| 发明名称 | 介电层以及形成此介电层的组合物及方法 | ||
| 摘要 | 一种用以制造介电层的组合物，其包括一种用以作为高介电前驱物的液态的烷氧化合物、一种感光型或非感光型高分子介质及溶剂，其中液态的烷氧化合物，分子式为M(OR)n，其中M为Al、Ti、Zr、Ta、Si、Ba、Ge或Hf之一，OR为含有1-10个碳的烷氧基，n为1-5。此组合物所形成的介电层除了包括感光型或非感光型高分子介质之外，在感光型或非感光型高分子介质中还具有非晶相氧化物。 | ||
| 申请公布号 | CN100505169C | 申请公布日期 | 2009.06.24 |
| 申请号 | CN200610002340.3 | 申请日期 | 2006.01.26 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 林蔚伶;林鹏;胡堂祥;陈良湘 |
| 分类号 | H01L21/288(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/288(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王 昕 |
| 主权项 | 1. 一种介电层的制造方法，其特征是包括：将组合物形成在基底上，上述组合物包括：液态的烷氧化合物，分子式为M(OR)n，其中M为Al、Ti、Zr、Ta、Si、Ba、Ge或Hf之一，OR为含有1-10个碳的烷氧基，n为1-5，作为高介电前驱物；感光型或非感光型高分子介质；以及溶剂，上述液态的烷氧化合物、上述感光型或非感光型高分子介质与上述溶剂互溶成均相液体；以及进行烘烤工序，以去除上述溶剂，并使得上述液态的烷氧化合物形成非晶相氧化物。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹县竹东镇中兴路四段195号 | ||