发明名称 |
热处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种热处理装置,包括:上端部形成有开口部的加热炉主体;该开口部处设置的加热炉主体用罩盖部件;设置在加热炉主体内壁处的加热组件;收装在加热炉主体内部处、单管构成的反应容器;形成在反应容器上部、贯通所述罩盖部件的排气配管连接部;和设置在排气配管连接部周围、控制排气配管连接部温度的第一温度控制组件,排气配管连接部处连接有排出反应容器内的气体的排气配管,排气配管连接部的端部处和排气配管的端部处都形成有凸缘部,排气配管连接部端部处与排气配管端部处的凸缘部被连接,在排气配管连接部的端部处的凸缘部和排气配管端部处的凸缘部中的至少一个上设置有对凸缘部彼此连接部分处的温度实施控制用的第三温度控制组件。 |
申请公布号 |
CN100505167C |
申请公布日期 |
2009.06.24 |
申请号 |
CN02822002.1 |
申请日期 |
2002.09.27 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
斋藤孝规;牧谷敏幸;长内长荣;泷泽刚;岛津和久;长谷部一秀;山本博之;斋藤幸正;山贺健一 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙 淳 |
主权项 |
1. 一种热处理装置,其特征在于,包括:在上端部形成有开口部的加热炉主体;在所述加热炉主体的开口部处设置的加热炉主体用罩盖部件;设置在所述加热炉主体内壁处的加热组件;收装在所述加热炉主体内部处的、由单管构成的反应容器;形成在所述反应容器上部处的、贯通所述加热炉主体用罩盖部件的排气配管连接部;和设置在所述排气配管连接部周围位置处的、控制所述排气配管连接部的温度的第一温度控制组件,所述排气配管连接部处连接有排出所述反应容器内部的气氛气体的排气配管,在所述排气配管连接部的端部处形成有凸缘部,在所述排气配管的端部处也形成有凸缘部,将所述排气配管连接部端部处的凸缘部与所述排气配管端部处的凸缘部加以连接,在所述排气配管连接部的端部处的凸缘部和所述排气配管端部处的凸缘部中的至少一个上设置有对所述凸缘部彼此连接部分处的温度实施控制用的第三温度控制组件。 |
地址 |
日本东京都 |