应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法

摘要

应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，它涉及一种应用胶体射流抛光元件的方法。本发明解决了现有的抛光方法难以使元件表面达到超光滑表面的要求或能达到超光滑表面的要求但加工成本过高的问题。本发明方法如下：在射流压力为0.1MPa～10MPa、喷射速度为10～200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面；其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001～0.02N·s/m²、pH值为8～12。本发明方法适用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料等硬脆材料的超精密、超光滑抛光，经过抛光后元件表面粗糙度小于1nm(Rms)，达到了超光滑表面的要求。

主权项

1、一种应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法如下：在射流压力为0.1MPa～10MPa、喷射速度为10～200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面；其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001～0.02N·s/m2、pH值为8～12。