发明名称 |
监控再生光致抗蚀剂的方法、光致抗蚀剂再生工艺及系统 |
摘要 |
本发明涉及一种监控再生光致抗蚀剂(光阻)的方法、一种光致抗蚀剂再生工艺及一种光致抗蚀剂再生系统。在本发明中,废光致抗蚀剂是藉由减压浓缩或添加光致抗蚀剂稀释剂来调整其固形物含量及粘度,并使该废光致抗蚀剂通过过滤装置去除粒状物,以获得可供利用的再生光致抗蚀剂;其中所述再生光致抗蚀剂的最终固形物含量及粘度是藉由本发明的定量方程式预先求得。 |
申请公布号 |
CN100504602C |
申请公布日期 |
2009.06.24 |
申请号 |
CN200410038301.X |
申请日期 |
2004.05.14 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
赖庆智;张芳诚;陈铭恩;朱荣祥;萧光玲;姜玉玲 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
黄 健 |
主权项 |
1. 一种监控再生光致抗蚀剂的方法,包含下列步骤:(a)将废光致抗蚀剂以光致抗蚀剂稀释剂稀释成不同粘度μo;(b)测定前述不同粘度μo光致抗蚀剂的固形物含量Co与固定转速下涂布的膜厚Hf;(c)利用步骤(a)、(b)获得的废光致抗蚀剂粘度、固形物含量及膜厚三者关系结果,求出公式(I)Hf=k0 Coα μoβ中的常数ko、α、β;(d)将实际操作时欲达成的目标膜厚带入步骤(c)所获得的已知常数ko、α、β的公式(I)Hf=k0 Coα μoβ,计算再生光致抗蚀剂所应达到的目标固形物含量及粘度;及(e)监控欲回收光致抗蚀剂的固形物含量及粘度是否与前述步骤(d)求得的目标固形物含量及粘度相近,以判定是否可将该光致抗蚀剂回收为再生光致抗蚀剂。 |
地址 |
台湾省新竹县 |