发明名称 电镀方法
摘要 本发明提供一种电镀方法,其用于提高表面电镀的均匀性,并包括以下步骤:提供待进行电镀的基体,所述基体包括待进行电镀的第一部分及与第一部分相接的第二部分。于第二部分的表面形成宽度等于或大于基体第一部分宽度的导电层,所述导电层与第一部分相接。将第一部分的表面置于镀液中进行电镀,以于第一部分的表面形成电镀层,电镀进行过程中逐渐提升第一部分,使第一部分逐渐移出镀液。
申请公布号 CN101463494A 申请公布日期 2009.06.24
申请号 CN200710203211.5 申请日期 2007.12.19
申请人 富葵精密组件(深圳)有限公司;鸿胜科技股份有限公司 发明人 刘兴泽;白耀文;张睿;张秋越
分类号 C25D5/00(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I;C22C47/06(2006.01)I;D06Q1/04(2006.01)I;C22C101/10(2006.01)N 主分类号 C25D5/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 【权利要求1】一种电镀方法,其包括以下步骤:提供待进行电镀的基体,所述基体包括待进行电镀的第一部分及与第一部分相接的第二部分;于第二部分的表面形成导电层,所述导电层宽度等于或大于基体第一部分的宽度,并与第一部分相接;将第一部分的表面置于镀液中进行电镀,以于第一部分的表面形成电镀层,电镀进行过程中逐渐提升第一部分,使第一部分逐渐移出镀液。
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