用于微纳米转印的均压装置

摘要

一种用于微纳米转印的均压装置，该装置至少包括：与均压件相邻的保持件、直接接触该基板或该模具的均压件以及提供承载进行转印成形的承载单元；本发明的均压装置可解决现有技术中施压不均、纳米结构局部扭转变形、产量受限、应力集中以及制造与组装困难等种种缺点，简化了装置的结构，降低装置成本，可维持模具与基板间的绝佳平行度，改善纳米转印的成形品质；可应用在单一基板或是连续性基板上，不仅适合大面积的压印，更可连续进行压印，有利于提高装置的产业利用价值。

主权项

1. 一种用于微纳米转印的均压装置，对基板与模具间的成形材料层提供均匀的转印压力，其特征在于，该装置至少包括：驱动单元；保持件，连接该驱动单元，该保持件具有一容置空间，一端形成有开口的结构；均压件，与该保持件相邻，包括一密封弹性膜及充填于该弹性膜内部的流体，以供直接接触该基板或该模具；以及承载单元，用于提供承载该模具或该基板进行转印成形；其中，当该驱动单元受驱动而向下进给时，令该保持件与该均压件向下进给，至该模具与该成形材料层完全接触并建立适当压力，通过由该保持件所保持的均压件直接施压于该模具或该基板。