| 主权项 |
1.一种倾斜侦测装置，应用于一摄像装置，包括：一壳体，用以结合于该摄像装置内部；一转轴，具有一固定端及一活动端，该固定端系固定于该壳体的内侧表面上，且该转轴具有复数个磁性区域；一光闸转盘，位于该壳体内，可转动式设置于该转轴的活动端上，以反应该摄像装置的倾斜而转动；一光感测器，设置于该光闸转盘的边缘上，用以感测该光闸转盘的转动量；至少一磁性感测器，位于该壳体内且对应该转轴，用以感测该转轴的磁性以得知该光闸转盘的转动方向；以及一输出单元，连接该光感测器和该磁性感测器，用以根据该转动量和该转动方向输出一倾斜角度。2.如申请专利范围第1项所述之倾斜侦测装置，其中该复数个磁性区域系由相异极性交替配置而成。3.如申请专利范围第1项所述之倾斜侦测装置，其中该复数个磁性区域系以该转轴的轴心为顶角而等角度区分成。4.如申请专利范围第1项所述之倾斜侦测装置，其中该光闸转盘的重心沿着该光闸转盘的表面偏向该光闸转盘的一侧。5.如申请专利范围第1项所述之倾斜侦测装置，其中该光闸转盘包括：一本体，可转动式设置于该转轴上，具有复数个光栅孔，且该复数个光栅孔环绕该本体的中心以放射状且等间隔配置于该本体上；其中，该光感测器系藉由感测该复数个光栅孔而得知该光闸转盘的转动量。6.如申请专利范围第5项所述之倾斜侦测装置，其中该本体更具有一套轴，该套轴位于该本体的表面上，且该套轴的轴心处具有一贯穿孔，其中该转轴的该活动端穿设于该贯穿孔中。7.如申请专利范围第6项所述之倾斜侦测装置，其中该至少一磁性感测器系设置于该套轴的外表面上。8.如申请专利范围第1项所述之倾斜侦测装置，其中该至少一磁性感测器系设置于该光栅转盘的表面上。9.一种倾斜侦测装置，应用于一摄像装置，包括：一壳体；一转轴，该转轴的一固定端固定该壳体的内侧表面上；一光闸转盘，位于该壳体内，可转动式设置于该转轴的一活动端上，以反应该摄像装置的倾斜而转动，其中该光闸转盘具有一套轴，该套轴位于该光闸转盘的表面上，该套轴具有复数个磁性区域，且该转轴的该活动端系穿设于该套轴中；一光感测器，设置于该光闸转盘的边缘上，用以感测该光闸转盘的转动量；至少一磁性感测器，位于该壳体内且对应该套轴，用以感测该套轴的磁性以得知该光闸转盘的转动方向；以及一输出单元，连接该光感测器和该磁性感测器，用以根据该转动量和该转动方向输出一倾斜角度。10.如申请专利范围第9项所述之倾斜侦测装置，其中该复数个磁性区域系由相异极性交替配置而成。11.如申请专利范围第9项所述之倾斜侦测装置，其中该复数个磁性区域系以该套轴的轴心为顶角而等角度区分成。12.如申请专利范围第9项所述之倾斜侦测装置，其中该光闸转盘的重心沿着该光闸转盘的表面偏向该光闸转盘的一侧。13.如申请专利范围第9项所述之倾斜侦测装置，其中该光闸转盘更包括：一本体，可转动式设置于该转轴上，具有复数个光栅孔，且该复数个光栅孔环绕该本体的中心以放射状且等间隔配置于该本体上；其中，该套轴系位于该本体的中心，且该光感测器系藉由感测该复数个光栅孔而得知该光闸转盘的转动量。图式简单说明：第1图系为根据本新型第一实施例之倾斜侦测元件的爆炸图；第2A图系为根据本新型第一实施例之倾斜侦测元件的组合示意图；第2B图系为于根据本新型之倾斜侦测元件中，一实施例的转轴的截面示意图；第3图系为根据本新型第二实施例之倾斜侦测元件的爆炸图；第4A图系为根据本新型第三实施例之倾斜侦测元件的爆炸图；第4B图系为于根据本新型之倾斜侦测元件中，一实施例的套轴的截面示意图；第5A图系为根据本新型之倾斜侦测元件中，一实施例的光闸转盘的截面图；第5B图系为于根据本新型之倾斜侦测元件中，另一实施例的光闸转盘的截面图；第6A图系为于根据本新型第四实施例之倾斜侦测元件的局部放大图；第6B图系为于根据本新型第五实施例之倾斜侦测元件的局部放大图；第6C图系为于根据本新型第六实施例之倾斜侦测元件的局部放大图；第7A图系为根据本新型一实施例之倾斜侦测装置的俯视图；第7B图系为根据本新型一实施例之倾斜侦测装置的侧视图；以及第8图系为根据本新型另一实施例之倾斜侦测装置的侧视图。 |
