发明名称 |
处理装置 |
摘要 |
喷头结构(26),具备:具有形成有多个气体喷射孔(30A、30B)的底壁(78A)和从底壁的边缘部竖起的侧壁(78B)、整体形成为杯形的一体式结构的喷头主体(78)。喷头主体(78)中收容有多个气体扩散室隔板(82A~82C)。设置在处理容器(24)天井部的喷头安装框架(76)上设置有贯通孔,喷头主体(78)侧壁(78B)的上侧部分插入其中,由此,侧壁(78B)的一部分露出于处理容器的外部。在侧壁(78B)的上端部安装有冷却机构(84)。可以提高冷却机构(84)和底壁(78A)之间的热传导性,将底壁(78A)控制在适宜的温度,防止不需要的膜附着在底壁(78A)上。 |
申请公布号 |
CN100499033C |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200580002527.7 |
申请日期 |
2005.01.14 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
纲仓学 |
分类号 |
H01L21/31(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙 淳 |
主权项 |
1. 一种处理装置,其特征在于,具有:处理容器、用于载置被处理体而设置在所述处理容器内的载置台、和设置在所述处理容器的天井部向所述处理容器内导入处理气体的喷头结构,其中,所述喷头结构,具备:喷头主体,其具有形成有多个气体喷射孔的底壁和从所述底壁的边缘部竖起的侧壁,并整体形成为杯形,其中,所述侧壁的上侧部分由凸部和不具有所述凸部的部分构成;喷头安装框架,其设置在所述处理容器的天井部、用来支撑所述喷头主体,并具有供所述喷头主体侧壁的上侧部分的凸部插入的至少一个贯通孔,所述贯通孔以不插入不具有所述凸部的部分的方式构成;冷却机构,其安装在插入所述喷头安装框架的所述贯通孔并露出于所述处理容器外部的所述喷头主体的所述侧壁的所述凸部的上端部分;第一带螺纹的螺栓,其从所述喷头主体的所述底壁的下面侧开始,贯通所述喷头主体的所述底壁,与所述喷头安装框架螺合;和至少一个的扩散室隔板,其收容在所述喷头主体内并与所述喷头安装框架结合,形成与所述气体喷射孔连通、同时被供给处理气体的气体扩散室。 |
地址 |
日本东京 |