发明名称 | 射线照相成像的系统和方法 | ||
摘要 | 一种射线照相成像系统(10)包括用于探测从对象(14)发出的第一辐射的探测器(16)的阵列。探测器(16)围绕圆形孔(18)进行布置,限定了成像系统(10)的视场。端屏蔽(40)被布置在轴向视场的入口和出口上,从而限定了对象接纳孔(46)。部分地覆盖圆周的一个或多个隔片(50)屏蔽探测器(16),以免受源自轴向视场外部的辐射以及身体散射的辐射。隔片(50)在视场上稀疏地进行散布,使得被隔片(50)屏蔽的区域与视场的比率是可忽略的。在不损害3D成像的情况下,患者孔(46)增加。 | ||
申请公布号 | CN100498380C | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
申请号 | CN200580002486.1 | 申请日期 | 2005.01.05 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | D·加农;J·A·科尔塔默 |
分类号 | G01T1/29(2006.01)I | 主分类号 | G01T1/29(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 顾 珊;刘 杰 |
主权项 | 1. 一种射线照相成像系统(10),包括:用于探测从检查区(22)中的对象(14)发出的第一辐射的装置(16),所述探测装置(16)围绕圆形孔(18)进行布置并且限定所述成像系统(10)的轴向视场;一个或多个周向延伸的隔片(50),用于屏蔽所述探测装置(16)以免受源自轴向视场的外部或远离轴向视场的中心的第一辐射,所述隔片(50)在所述视场上轴向地进行散布;和对象支承物(12),其适于被接纳在所述圆形孔(18)中,进一步包括对象支承物屏蔽(62),该对象支承物屏蔽被布置在所述对象支承物(12)的一部分的下方,以增强阻挡源自轴向视场的外部或远离轴向视场的中心的辐射。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |