| 发明名称 | 抛光组合物和抛光方法 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。 | ||
| 申请公布号 | CN100497509C | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
| 申请号 | CN200410104484.0 | 申请日期 | 2004.12.24 |
| 申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 宇野贵规;杉山博保;大胁寿树 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;B24B9/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
| 主权项 | 1. 一种抛光组合物，包含热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水，所述第一有机酸是柠檬酸或苹果酸，其特征在于，所述热解法氧化铝的平均一次颗粒尺寸为5nm～0.1μm，所述非热解法氧化铝的平均颗粒尺寸为0.2～1.2μm。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县 | ||