发明名称 源极/漏极电极、晶体管衬底及其制造方法和显示装置
摘要 在包含基板、薄膜晶体管半导体层、源极/漏极电极和透明像素电极的薄膜晶体管衬底中,所述源极/漏极电极包括铝合金薄膜,所述铝合金含0.1-6原子%的镍作为合金元素,并且直接连接到所述的薄膜晶体管半导体层上。
申请公布号 CN100499137C 申请公布日期 2009.06.10
申请号 CN200610114890.4 申请日期 2006.08.16
申请人 株式会社神户制钢所 发明人 钉宫敏洋;后藤裕史
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/43(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 陈 平
主权项 1. 一种薄膜晶体管衬底,其包含基板、半导体层、源极/漏极电极和透明像素电极,所述的源极/漏极电极包含铝合金薄膜,该铝合金含0.1-6原子%的镍作为合金元素,其中所述的源极/漏极电极被设置成所述的铝合金薄膜直接连接到所述的半导体层上,并且其中所述的铝合金还包含0.1-1.0原子%的选自Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的至少一种元素作为合金元素。
地址 日本兵库县