发明名称 |
干涉仪装置的系统误差校正方法 |
摘要 |
本发明提供一种干涉仪装置的系统误差校正方法,分析性地求出由干涉仪装置的系统误差引起的系统固有的散光像差成分和慧形像差成分,而使被检透镜的波前像差的测定结果得以校正。将被检透镜(5)相对于测定光轴(C)保持在相互隔离90度的2个旋转位置而分别进行测定,将所得到的第1及第2像差函数分类为对应于赛德像差的各像差函数,将其中与散光像差对应的第1及第2散光像差函数求出。将第1散光像差函数和第2散光像差函数相加的函数再分类为对应于赛德像差的各像差函数,将其中与散光像差对应的第3散光像差函数求出,基于该第3散光像差函数的2分之1所对应的系统固有的像差函数而求出系统固有的散光像差成分。 |
申请公布号 |
CN101451889A |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200810177435.8 |
申请日期 |
2008.11.27 |
申请人 |
富士能株式会社 |
发明人 |
斋藤隆行;葛宗涛 |
分类号 |
G01J9/00(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01J9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
1. 一种干涉仪装置的系统误差校正方法,其特征在于,在根据由被检透镜的透射波前和参照波前的光干涉得到的干涉条纹图像来测定上述被检透镜的波前像差的干涉仪装置中,分析性地求出由该干涉仪装置的系统误差引起的系统固有的散光像差成分,补正上述波前像差的测定结果,将上述被检透镜相对于上述干涉仪装置的测定光轴保持在任意的旋转位置,根据在该任意的旋转位置得到的上述干涉条纹图像,求出与该任意的旋转位置的上述波前像差对应的第1像差函数;将上述被检透镜保持在从上述任意的旋转位置绕上述测定光轴旋转90度的比较用的旋转位置,根据在该比较用的旋转位置得到的上述干涉条纹图像,求出与该比较用的旋转位置的上述波前像差对应的第2像差函数;将上述第1像差函数分类为与赛德像差分别对应的各像差函数,将其中对应于散光像差的像差函数作为第1散光像差函数求出;将上述第2像差函数分类为与赛德像差分别对应的各像差函数,将其中对应于散光像差的像差函数作为第2散光像差函数求出;将上述第1散光像差函数和上述第2散光像差函数相加后的函数再分类为与赛德像差分别对应的各像差函数,将其中对应于散光像差的像差函数作为第3散光像差函数求出;将该第3散光像差函数的2分之1倍的函数作为表示上述系统固有的散光像差成分的系统固有的散光像差函数,根据该系统固有的散光像差函数求出上述系统固有的散光像差成分。 |
地址 |
日本国埼玉县 |