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发明名称 Plasma focus high energy photon source
摘要
申请公布号 EP1047288(B1) 申请公布日期 2009.06.10
申请号 EP20000105276 申请日期 2000.03.14
申请人 CYMER, INC. 发明人 PARTLO, WILLIAM N.;FOMENKOV, IGOR V.;BIRX, DANIEL L.
分类号 G21K5/02;H05G2/00;G03F7/20;G21K5/00;H01L21/027;H05H1/06;H05H1/24 主分类号 G21K5/02
代理机构 代理人
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