发明名称 Substratbearbeitungsvorrichtung
摘要 Die vorliegende Erfindung stellt eine Substratbearbeitungsvorrichtung zum Bearbeiten von Substraten durch Eintauchen der Substrate in eine Bearbeitungsflüssigkeit bereit. Diese Substratbearbeitungsvorrichtung enthält einen Bearbeitungstank, der ein Paar von Seitenwänden aufweist, die angeordnet sind, um einander gegenüberzustehen; und ein Paar von Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrmechanismen, die entsprechend jeweils an dem Paar von Seitenwänden vorgesehen sind. Das Paar von Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrmechnismen ist entsprechend zum Zuführen der Bearbeitungsflüssigkeit zu einem mittleren Abschnitt des Bearbeitungstanks in der Breitenrichtung, die das Paar von Seitenwänden verbindet, vorgesehen, wodurch eine Aufwärtsströmung der Bearbeitungsflüssigkeit in einem mittleren Bereich in der Breitenrichtung des Bearbeitungstanks erzeugt wird. Jede Innenwandfläche des Paars von Seitenwänden enthält einen Hauptkörper, einen Vorsprungsabschnitt, der oberhalb des Hauptkörpers angeordnet ist, und einen Abgabeführungsabschnitt, der am höchsten positioniert ist und einen Abgabeanschluss bereitstellt, der zum Ermöglichen der Bearbeitungsflüssigkeit überzulaufen, konfiguriert ist. Der Abgabeführungsabschnitt ist nach oben geneigt, entgegengesetzt zum mittleren Abschnitt in der Breitenrichtung. Der Vorsprungsabschnitt enthält einen inneren Endabschnitt, der näher an dem mittleren Abschnitt in der Breitenrichtung positioniert ist als der Hauptkörper und der Abgabeführungsabschnitt.
申请公布号 DE102008060390(A1) 申请公布日期 2009.06.10
申请号 DE200810060390 申请日期 2008.12.03
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HIROSHIRO, KOUKICHI;YAMAMOTO, HIDEYUKI;TAKESHITA, KAZUHIRO;TOSHIMA, TAKAYUKI
分类号 H01L21/302;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址